鎂合金是目前最輕的金屬結構材料，同時具有高的比強度和良好的鑄造性能，成為工程塑料、鋁合金和鋼材應用的競爭者或替代品，在汽車、航空、電子、兵工等領域具有廣泛的應用前景，但其化學活性高(標準電極電位為?2.37 V)、極易腐蝕、耐磨性差、表面膜疏松多孔等，這些缺點成為制約其發(fā)揮結構性能優(yōu)勢的最大障礙。因此，鎂合金需要進行表面處理后才能在大氣條件下長期使用。

        微弧氧化所形成的氧化膜具有明顯的三層結構：外部的疏松層、中間的致密層和內部的結合層。致密層占總膜厚的90%，與基體形成微區(qū)冶金結合。微弧氧化疏松層中存在許多孔洞及其他缺陷，其物理、化學特性與微弧氧化處理時電參量的選擇、電解液的配方以及樣品自身的特性有關。經過多年的研究，鎂合金微弧氧化技術已經有了長足的發(fā)展，但微弧氧化技術及其在鎂合金表面的理論研究和應用仍存在許多不足，亟待進一步完善：

        (1)微弧氧化陶瓷層表面存在大量的微孔，表面粗糙，致密度較低，嚴重影響陶瓷層的性能。近年來通過復合表面處理技術，如微弧-電泳復合處理工藝等，可以提高耐磨和耐蝕性能，改善致密層質量，增強陶瓷層的性能。

        (2) 由于稀土元素優(yōu)異的改性性能，其可以使微弧氧化起弧時間短，起弧電壓下降明顯，氧化膜均勻，表面顏色更白，同時還可以增加氧化膜的厚度，使得稀土元素在微弧氧化中的作用愈加明顯，并且我國稀土資源豐富，開發(fā)稀土元素在微弧氧化工藝中的應用有較大的意義。

        (3) 交流脈沖電源在鎂合金微弧氧化過程中生長的陶瓷膜性能比直流電源生產的陶瓷膜的質量和性能高得多，因此交流脈沖電源模式將是微弧氧化技術的重要發(fā)展方向。

        (4) 雖然鎂合金微弧氧化后性能要優(yōu)于陽極氧化，但微弧氧化成本較高，因此開發(fā)成本低、可回收、再利用、無污染的電解液是微弧氧化技術研究的關鍵。

        微弧氧化層技術的應用和廣泛發(fā)展存在著諸多限制性因素，為了大力促進微弧氧化技術的發(fā)展，并實現(xiàn)工程化應用，開發(fā)無污染電解液是微弧氧化層技術的首要任務，完善工藝參數(shù)，降低成本，盡早實現(xiàn)抑制弧光能耗，解決鎂合金微弧氧化工業(yè)化應用的難題。

        鎂合金復合氧化技術，是華清高科針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優(yōu)化了鎂合金通電問題，使得鎂合金在經過復合氧化工藝加工后非常適合應用于航空航天領域。復合氧化技術是繼化學鍍、轉化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術。

        通過復合氧化技術對鎂合金零部件的處理形成的膜層與普通的陽極氧化膜層相比,空隙小,空隙率低,與基質結合緊密,且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。鎂合金復合氧化技術生成的膜層綜合性能優(yōu)良,與鎂合金零部件結合牢固,且工藝簡單,對環(huán)境污染小, 所得膜層均勻、質硬，可以起到長期的保護作用,鎂合金零部件裸膜狀態(tài)下鹽霧時間可達200小時，目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究。華清高科復合氧化技術在工業(yè)上得到了一定的應用,是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金零部件表面處理技術。

        復合氧化技術處理能力強，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調節(jié)膜層厚度使鎂合金表面具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進行多次復合氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。復合氧化技術雖尚未投入大規(guī)模生產，但已引起人們的普遍關注，在許多工業(yè)領域有廣闊的應用前景，是鎂合金零部件表面處理技術發(fā)展的一個重要突破。