微弧氧化又被稱為微弧等離子體氧化或陽(yáng)極火花沉積，總稱微弧氧化。利用交、直流電在陽(yáng)極區(qū)產(chǎn)生等離子微弧放電，瞬間的高溫?zé)Y(jié)作用直接在鎂合金表面原位形成陶瓷膜。微弧區(qū)溫度可以達(dá)到1000℃以上，從而使陽(yáng)極氧化物溶覆在金屬鎂合金表面，這種陶瓷質(zhì)膜大大提高了陽(yáng)極氧化膜的硬度和致密性。膜層厚度大約在5~70μm間可調(diào)整。微弧氧化生成的陶瓷膜可以保證在中性鹽霧里通過(guò)500h，涂層附著力達(dá)到0級(jí)，顯微硬度在400HV左右。但微弧氧化后仍需進(jìn)一步涂裝保護(hù)。

        微弧氧化又被稱為微弧等離子體氧化或陽(yáng)極火花沉積，總稱微弧氧化。利用交、直流電在陽(yáng)極區(qū)產(chǎn)生等離子微弧放電，瞬間的高溫?zé)Y(jié)作用直接在鎂合金表面原位形成陶瓷膜。微弧區(qū)溫度可以達(dá)到1000℃以上，從而使陽(yáng)極氧化物溶覆在金屬鎂合金表面，這種陶瓷質(zhì)膜大大提高了陽(yáng)極氧化膜的硬度和致密性。膜層厚度大約在5~70μm間可調(diào)整。微弧氧化生成的陶瓷膜可以保證在中性鹽霧里通過(guò)500h，涂層附著力達(dá)到0級(jí)，顯微硬度在400HV左右。但微弧氧化后仍需進(jìn)一步涂裝保護(hù)。

        微弧氧化所形成的氧化膜具有明顯的三層結(jié)構(gòu)：外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。致密層占總膜厚的90%，與基體形成微區(qū)冶金結(jié)合。微弧氧化疏松層中存在許多孔洞及其他缺陷，其物理、化學(xué)特性與微弧氧化處理時(shí)電參量的選擇、電解液的配方以及樣品自身的特性有關(guān)。

        微弧氧化工藝的特點(diǎn)是：①應(yīng)用成本比硬質(zhì)陽(yáng)極氧化低；②前處理較為簡(jiǎn)單；③環(huán)境良好；④對(duì)形狀復(fù)雜的工件以及受限通道可以形成均勻的膜層；⑤尺寸形變小；⑥耐蝕性良好。

        但微弧氧化自身受電解工藝影響，無(wú)法避免的形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過(guò)程電解質(zhì)溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇，耗能大成本高，工藝時(shí)間長(zhǎng)。

        綜上，鎂合金微弧氧化技術(shù)雖然可以應(yīng)用在鎂合金表面處理工藝中，但還不能完全解決鎂合金生銹痛點(diǎn)，因此，從技術(shù)的角度加強(qiáng)鎂合金表面處理技術(shù)的發(fā)展、深入研究保護(hù)膜形成的機(jī)理，可進(jìn)一步改善表面防護(hù)膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點(diǎn)，在行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域上對(duì)推進(jìn)鎂合金材料在航空航天、交通領(lǐng)域與電子工業(yè)等領(lǐng)域的應(yīng)用具有十分重要的現(xiàn)實(shí)意義和經(jīng)濟(jì)效益。

        復(fù)合氧化技術(shù)，是一種針對(duì)鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問(wèn)題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優(yōu)化了這些問(wèn)題，復(fù)合氧化技術(shù)是繼化學(xué)鍍、轉(zhuǎn)化膜涂層、陽(yáng)極氧化、有機(jī)物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術(shù)。鎂合金復(fù)合氧化技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、材料適應(yīng)性寬等特點(diǎn)，所得膜層均勻、質(zhì)硬，可以起到長(zhǎng)期的保護(hù)作用,鹽霧時(shí)間可達(dá)200小時(shí)，涂層與基體的結(jié)合緊密,這也是鎂合金表面處理技術(shù)發(fā)展的一個(gè)重要突破。